一、事件:
继美国与荷兰之后,7月23日,日本限制半导体制造设备出口的新规正式生效。
此前,在经过一个多月的意见征询后,5月23日,日本经产省公布《外汇法》修正案,将先进芯片制造所需的23个品类的半导体设备列入出口管制对象。
日本此次限制出口的23种半导体材料和设备中包括了多种关键性材料,例如氟化氢、蚀刻液、聚酰亚胺和高纯度氮等。
具体而言,涉及光刻/曝光领域的有4项,即先进制程的光刻机/涂胶显影机/掩膜及制造设备;涉及刻蚀领域的有3项,分别是湿法/干法/各向异性的高端刻蚀;涉及清洗领域的有3项:即铜氧化膜、干燥法去除表面氧化物、晶圆表面改性后单片清洗。涉及最多的是薄膜领域,达11项。此外,涉及热处理和测试领域的各1项。
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